对于直径为100um的硅片，恒温恒湿净化实验室公司，温度上升1度，引起0.24um的线膨胀，河北恒温恒湿净化实验室，所以有0.1度的恒温，同时要求湿度值低，因为人出汗后，会对产品造成污染，尤其是怕钠的半导体车间。
净化工程湿度过---导致更多问题。当相对湿度超过55%时，冷却水管壁会发生冷凝。如果发生在精密器件或电路中，会引起各种事故。当相对湿度为50%时，容易生锈。
但是，对于大多数清洁空间，为了防止外部污染侵入，需要保持内部压力(静压)高于外部压力(静压)。压差的保持应符合以下原则:
1.高洁净度空间的压力高于相邻低洁净度空间的压力。
2.相通洁净室之间的门应该向低洁净度的房间敞开。
3.净化工程洁净空间的压力高于不洁净空间。
压差的维持取决于新风量，新风量可以补偿在此压差下从缝隙中漏出的风量。因此，压差的物理意义是净化工程中通过各种缝隙的泄漏(或渗透)气流的阻力。
净化工程的温度和湿度主要根据您的加工工艺要求来决定。在满足加工工艺的条件下，应以人的舒适性为主要选择。随着净化工程空气洁净度要求的提高，过程中对温度和湿度的要求越来越高，达到一定的温度和湿度等。例如，在---集成电路生产的光刻---工艺中，要求作为掩膜材料的玻璃和硅片的热膨胀系数之差越来越小。
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